| 产品特性：高效清洁 | 是否进口：否 | 产地：苏州 |
| 加工定制：是 | 类型：根据需求定制 | 适用领域：电子行业 |
| 用途：工业用 | 槽数：定制 | 型号：自定义 |
| 品牌：苏州芯矽科技 |
半导体硅片清洗机主要用于去除硅片表面的颗粒、有机物、金属和氧化物等污染物。这些污染物即使是微量存在也可能导致器件失效，因此清洗过程至关重要。
主要类型
槽式清洗设备：包括化学清洗槽和兆声清洗槽等，适用于不同的清洗需求和化学液浓度。
旋转喷淋清洗系统：在一个密封的工作腔内完成化学清洗、去离子水冲洗和旋转甩干，减少了人为操作的影响。
刷洗器：主要用于硅片抛光后的清洗，有效去除大颗粒。
产品特点
自动化程度高：许多现代硅片清洗机配备了自动配酸装置、自动补液装置和氮气鼓泡装置，提高了生产效率和产品质量。
材料耐腐蚀：采用德国进口PP板制作而成，全面完善的防酸防腐措施保护机器每个角落。
高效节能：例如，DFQ系列全自动单晶圆湿处理设备产能≥1200片/h，开工率＞92%，碎片率≤3‰。
典型工艺
湿法清洗：包括RCA清洗和改进的RCA清洗，使用特定的化学液和温度条件来去除硅片表面的污染物。
自然氧化层去除：使用HF溶液去除硅片表面的自然氧化层，以准备后续工艺。
